国内会議発表 (査読なし・不明)

• 佐野貴洋, 仲野雄介, 大見俊一郎. ECRスパッタ法による3次元ゲート構造上へのHfO2薄膜の形成, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 応用物理学会, No. 2, p. 882, Mar. 2008.
• 高峻, 仲野雄介, 大見俊一郎. Hf混晶化PtSiのシリサイド化条件に関する検討, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 応用物理学会, No. 2, p. 885, Mar. 2008.
• 大見俊一郎, 高峻, 仲野雄介. Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数変調, 電子情報通信学会SDM研究会, 電子情報通信学会技術研究報告, 電子情報通信学会, Vol. 107, No. 245, pp. 53-56, Oct. 2007.
• 仲野雄介, 佐藤雅樹, 大見俊一郎. ECRプラズマプロセスによるHfO2系絶縁膜の極薄膜化の検討, 電子情報通信学会SDM研究会, 電子情報通信学会技術研究報告, 電子情報通信学会, Vol. 107, No. 245, pp. 19-22, Oct. 2007.
• 仲野雄介, 大見俊一郎. 高誘電率HfOxNy絶縁膜のPDAプロセスの検討, 第68回応用物理学会学術講演会, 第68回応用物理学会学術講演会 講演予稿集, 応用物理学会, No. 2, p. 812, Sept. 2007.

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