Patent

• Kazushi Kawamura, Jaehoon Yu, Masato Motomura. アニーリング処理装置、アニーリング処理方法及びプログラム. Patent. Published. 国立大学法人東京科学大学. 2023/01/20. 特願2023-007010. 2024/08/01. 特開2024-102928. 2024.
• Kazushi Kawamura, Jaehoon Yu, Masato Motomura. アニーリング処理システム、管理装置、チップ、アニーリング処理方法及びプログラム. Patent. Published. 国立大学法人東京科学大学. 2023/01/20. 特願2023-007011. 2024/08/01. 特開2024-102929. 2024.

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