論文

• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Thickness dependence of phase stability in epitaxial (HfxZr1-x)O2 films, Physical review materials, Vol. 5, pp. 114407, Nov. 2021.
• Hiroki Moriwake, Rie Yokoi, Ayako Taguchi, Takafumi Ogawa, Craig A. J. Fisher, Akihide Kuwabara, Yukio Sato, Takao Shimizu, Yosuke Hamasaki, Hiroshi Takashima, Mitsuru Itoh. A computational search for wurtzite-structured ferroelectrics with low coercive voltages, APL Materials, American Institute of Physics, Vol. 8, Issue 12, p. 121102, Dec. 2020.
• Masanori Kodera, Ayako Taguchi, Takao Shimizu, Hiroki Moriwake, Hiroshi Funakubo. Fabrication and characterization of ReO3-type dielectric films, J. Mater. Chem. C, Vol. 8, No. 14, pp. 4680-4684, Mar. 2020.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Room-temperature deposition of ferroelectric HfO2-based films by the sputtering metho, Appl. Phys. Lett., Vol. 116, pp. 062901-1-5, Feb. 2020.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Thickness- and orientation- dependences of Curie temperature in ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 films, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 59, pp. SGGB04-1-6, Feb. 2020.
• Kodai Aoyama, Takao Shimizu, Hideto Kuramochi, Masami Mesuda, Ryo Akiike, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Thermoelectric (BaxSr1–x)Si2 films prepared by sputtering method over the barium solubility limit, Jpn. J. Appl. Phys., vol. 59, p. SFFB02-1-6, Jan. 2020.
• Kodai Aoyama, Takao Shimizu, Hideto Kuramochi, Masami Mesuda, Ryo Akiike, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Fabrication and characterization of CaxSr1-x)Si2 films prepared by co-sputtering method, MRS Advances, Jan. 2020.
• Atsuo Katagiri, Shota Ogawa, Takao Shimizu, Masaaki Matsushima, Kensuke Akiyama, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Epitaxial growth of Mg2Si films on (111) Si substrates covered with epitaxial SiC layers, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 59, pp. SF1001-1-4, Jan. 2020.
• Hyeon Jun Lee, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Yasuhiko Imai, Osami Sakata, Seung Hyun Hwang, Tae Yeon Kim, Changjae Yoon, Cheng Dai, Long Q. Chen, Su Yong Lee, Ji Young Jo. Electric-Field-Driven Nanosecond Ferroelastic-Domain Switching Dynamics in Epitaxial Pb(Zr,Ti)O3 Film, Phys. Rev. Lett., Vol. 123, pp. 217601, Nov. 2019.
• Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Shintaro Yasui, Takahiro Oikawa, Takahisa Shiraishi, Hiroki Tanaka, Noriyuki Kanenko, Ronald Maran, Tomoaki Yamada, Yasuhiko Imai, Osami Sakata, Nagarajan Valanoor, Hiroshi Funakubo. Ferroelastic Domain Motion by Pulsed Electric Field in (111)/(11¯1 ) Rhombohedral Epitaxial Pb(Zr_0.65Ti_0.35)O₃ Thin Films: Fast Switching and Rrelaxation, Physical Review B, vol. 100, pp. 104116 1-7, Sept. 2019.
• Yoshiharu Ito, Akinori Tateyama, Yoshiko Nakamura, Takao Shimizu, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Toyohiko J. Konno, Mutsuo Ishikawa, Hiroshi Funakubo. Growth of epitaxial (K, Na)NbO3 films with various orientations by hydrothermalmethod and their properties, Jpn. J. Appl. Puys., Vol. 58, pp. SLLB14, Sept. 2019.
• Hidehisa Inoue, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Electric field-induced change in the crystal structure of MOCVD-Pb(Zr,Ti)O3 films near the phase boundary, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 58, pp. SLLB07, Aug. 2019.
• Masanori Kodera, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Ferroelectric properties of epitaxial Bi2SiO5 thin films grown on SrTiO3 substrates with various orientations, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 58, pp. SLLB04, Aug. 2019.
• Yoshiharu ITO, Akinori TATEYAMA, Yoshiko NAKAMURA, Takao SHIMIZU, Minoru KUROSAWA, Hiroshi UCHIDA, Takahisa SHIRAISHI, Takanori KIGUCHI, Toyohiko J. KONNO, Mutsuo ISHIKAWA, Hiroshi FUNAKUBO. Deposition of orientation-controlled thick (K, Na)NbO3 films on metal substrates by repeated hydrothermal deposition technique, Journal of the Ceramic Society of Japan, Vol. 127, No. 7, pp. 478-484, July 2019.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Ferroelectricity in YO1.5-HfO2 films around 1 μm in thickness, Appl. Phys. Lett., Vol. 115, pp. 032901, July 2019.
• T. Shiraishi, S. Choi, T. Kiguchi, T. Shimizu, H. Funakubo, T. J. Konno. Formation of the orthorhombic phase in CeO2-HfO2 solid solution epitaxial thin films and their ferroelectric properties, Appl. Phys. Lett., Vol. 14, pp. 232902-1-5, June 2019.
• Kodai AOYAMA, Takao SHIMIZU, Hideto KURAMOCHI, Masami MESUDA, Ryo AKIIKE, Yoshisato KIMURA, Hiroshi FUNAKUBO. Evaluation of phase and thermoelectric properties of thin film SrSi2, Journal of the Ceramic Society of Japan, Vol. 127, No. 6, pp. 394-398, June 2019.
• Akinori Tateyama, Yoshiharu Ito, Yoshiko Nakamura, Takao Shimizu, Yuichiro Orino, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Toyohiko J. Konno, Nobuhiro Kumada, Hiroshi Funakubo. Effects of starting materials on the deposition behavior of hydrothermally synthesized {100}c -oriented epitaxial (K,Na)NbO3 thick films and their ferroelectric and piezoelectric properties, J. Crystal Growth, Vol. 511, pp. 1-7, Apr. 2019.
• Mutsuo Uehara, Atsuo Katagiri, Mao Kurokawa, Kensuke Akiyama, Takao Shimizu, Masaaki Matsushima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Preparation of CaMgSi and Ca7Mg7.25Si14 single phase films and their thermoelectric properties, MRS Adv., Vol. 4, No. 25-26, pp. 1503-1508, Feb. 2019.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Effects of heat treatment and in-situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 film., Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 58, pp. SBBB09-1-5, Feb. 2019.
• S. Choi, T. Shiraishi, T. Kiguchi, T. Shimizu, H. Funakubo, T. J. Konno. Formation of polar phase in Fe-doped ZrO2 epitaxial thin films, Appl. Phys. Lett., Vol. 113, pp. 262903, Dec. 2018.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Toyohiko Konno, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Ferroelectricity mediated by ferroelastic domain switching in HfO2-based epitaxial thin films, Appl. Phys. Lett., Vol. 113, pp. 212901-1-5, Nov. 2018.
• Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Toyohiko J. Konno. Domain orientation relationship of orthorhombic and coexisting monoclinic phases of YO1.5-doped HfO2 epitaxial thin films, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 57, pp. 11UF16-1-7, Oct. 2018.
• Taisei Suzuki, Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Epitaxial ferroelectric Y-doped HfO2 film grown by the RF magnetron sputtering, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 57, pp. 11UF15-1-4, Oct. 2018.
• Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo. Domain structure transition from two to three dimensions in tensile strained (100)/ (001)-oriented epitaxial tetragonal PZT film, Appl. Phys. Lett., Vol. 113, pp. 132905-1-5, Sept. 2018.
• Hiroki Tanaka, Kiyoshi Uchiyama, Takahiro Oikawa, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Epitaxial growth of perovskite-type oxide thin film on (111)SrTiO3 substrate using (101)PdO as a buffer layer, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 57, pp. 11UF04-1-4, Sept. 2018.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Thickness-dependent crystal structure and electric properties of epitaxial ferroelectric Y2O3-HfO2 films, Appl. Phys. Lett., Vol. 113, pp. 102901-1-4, Sept. 2018.
• Takahisa Shiraishi, Sujin Choi, Takanori Kiguchi, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo, Toyohiko J. Konno. Fabrication of ferroelectric Fe doped HfO2 epitaxial thin films by ion-beam sputtering method and their characterization, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 57, pp. 11UF02, Aug. 2018.
• Tomoya Sato, Daichi Ichinose, Naoya Oshima, Takanori Mimura, Yuichi Nemoto, Takao Shimizu, Yasuhiko Imai, Hiroshi Uchida, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Time response demonstration of in-situ lattice deformation under an applied electric field using synchrotron-based time-resolved XRD in polar-axis-oriented epitaxial Pb(Zr,Ti)O3 film, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 57, pp. 0902B8-1-5, June 2018.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Hiroshi Funakubo. Stability of orthorhombic phase in (111)-oriented YO1.5-substituted HfO2 films, J. Ceram. Soc. Jpn., vol. 126, no. 5, pp. 269-275, May 2018.
• Atsuo Katagiri, Shota Ogawa, Mutsuo Uehara, P. S. Sankara Rama Krishnan, Mao Kurokawa, Masaaki Matsushima, Takao Shimizu, Kensuke Akiyama, Hiroshi Funakubo. Growth of (111)-oriented epitaxial magnesium silicide (Mg2Si) films on (001) Al2O3 substrates by RF magnetron sputtering and their properties, J. Mater. Sic., vol. 53, no. 7, pp. 5151-5158, Apr. 2018.
• Mao Kurokawa, Takao Shimizu, Mutsuo Uehara, Atsuo Katagiri, Kensuke Akiyama, Masaaki Matsushima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Control of p- and n-type Conduction in Thermoelectric Non-doped Mg2Si Thin Films Prepared by Sputtering Method, MRS Advances, vol. 3, no. 24, pp. 1355-1359, Feb. 2018.
• Takahisa Shiraishi, Kiliha Katayama, Tatsuhiko Yokouchi, Takao Shimizu, Takahiro Oikawa, Osami Sakata, Hiroshi Uchida, Yasuhiko Imai, Takanori Kiguchi, Toyohiko J. Konno, Hiroshi Funakubo. Effect of the film thickness on the crystal structure and ferroelectric properties of (Hf0.5Zr0.5)O2 thin films deposited on various substrates, Materials Science in Semiconductor Processing, vol. 70, pp. 239–245, Nov. 2017.
• Yoshiomi Hiranaga, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Yasuo Cho. Dynamic observation of ferroelectric domain switching using scanning nonlinear dielectric microscopy, Jpn. J. Appl. Phys., vol. 56, pp. 10PF16-1-7, Sept. 2017.
• Chihoko Abe, Syuhei Nakayama, Marina Shiokawa, Hiroaki Kawashima, Kiliha Katayama, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Hiroshi Uchida. Crystal structure and dielectric / ferroelectric properties of CSD-derived HfO2-ZrO2 solid solution films, Ceramic International, vol. 43, pp. S501–S505, Aug. 2017.
• Yoshitaka Ehara, Shintaro Yasui, Takahiro Oikawa, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroki Tanaka, Noriyuki Kaneko, Ronald Maran, Tomoaki Yamada, Yasuhiko Imai, Osami Sakata, Nagarajan Valanoor, Hiroshi Funakubo. In-situ Observation of Ultrafast 90° Domain Switching under Application of an Electric Field in (100)/(001)-oriented Tetragonal Epitaxial Pb(Zr_0.4Ti_0.6)O₃ Thin Flms, Scientific Reports, vol. 7, 9641, Aug. 2017.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Hiroshi Funakubo. Epitaxial growth of YO1.5 doped HfO2 films on (100) YSZ substrates with various concentrations, FERROELECTRICS, vol. 512, pp. 105–110, Aug. 2017.
• Seiji Nakashima, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Daichi Ichinose, Kota Takayama, Yasuhiko Imai, Hironori Fujisawa, Masaru Shimizu. Electric-field-induced lattice distortion in epitaxial BiFeO3 thin films as determined by in situ time-resolved x-ray diffraction, Appl. Phys. Lett., vol. 111, pp. 082907-1-5, Aug. 2017.
• Yosuke Hamasaki, Takao Shimizu, Shintaro Yasui, Takahisa Shiraishi, Akihiro Akama, Takanori Kiguchi, Tomoyasu Taniyama, Mitsuru Itoh. Crystal Structure and Magnetism in k-Al₂O₃-type Al_xFe_2-xO₃ Films on SrTiO₃(111), Journal of Applied Physics, vol. 122, No. 1, pp. 015301 1-7, July 2017.
• Daichi Ichinose, Takaaki Nakashima, Yoshitaka Ehara, Takahiro Oikawa, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo. Orientation change with substrate type and composition in (100)/(001)-oriented epitaxial tetragonal Pb(Zrx Ti1−x)O3 films, Journal of the Ceramic Society of Japan, vol. 125, no. 6, pp. 458-462, June 2017.
• Takaaki Nakashima, Daichi Ichinose, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Takeshi Kobayashi, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo. Effect of in-plane tensile strain in (100)/(001)-oriented epitaxial PbTiO3 films on their phase transition temperature and tetragonal distortion, Appl. Phys Lett., vol. 110, pp. 1229021-4, Mar. 2017.
• Mao Kurokawa, Mutsuo Uehara, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Kensuke Akiyama, Masaaki Matsushima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Preparation of preferentially (111)-oriented Mg2Si thin films on (001)Al2O3 and (100)CaF2 substrates and their thermoelectric properties, Japanese Journal of Applied Physics, vol. 56, pp. 05DC02-1-4, Mar. 2017.
• Yosuke Hamasaki, Takao Shimizu, Shintaro Yasui, Tomoyasu Taniyama, Mitsuru Itoh. Evidence of Ferroelectricity in Ferrimagnetic k-Al₂O₃-type In_0.25Fe_1.75O₃ Films, Applied Physics Letters, vol. 109, No. 16, pp. 162901 1-4, Oct. 2016.
• Ayako Konishi, Takafumi Ogawa, Craig A. J. Fisher, Akihide Kuwabara, Takao Shimizu, Shintaro Yasui, Mitsuru Itoh, Hiroki Moriwake. Mechanism of Polarization Switching in Wurtzite-Structured Zinc Oxide Thin Films, Applied Physics Letters, vol. 109, No. 10, pp. 102903 1-4, Sept. 2016.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. The demonstration of significant ferroelectricity in epitaxial Y-doped HfO2 film, Sci. Rep., vol. 6, pp. 32931, Sept. 2016.
• Kiliha Katayama, Takao Shimizu, Osami Sakata, Takahisa Shiraishi, Syogo Nakamura, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Growth of (111)-oriented epitaxial and textured ferroelectric Y-doped HfO2 films for downscaled devices, Appl. Phys. Lett., vol. 109, pp. 112901-1-5, Sept. 2016.
• Yuichi Nemoto, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Wakiko Yamaoka, Yusuke Sato, Hiroshi Funakubo. Growth of epitaxial tetragonal (Bi,K)TiO3 films and their ferroelectric and piezoelectric properties, Jpn. J. Appl. Phys., vol. 55, pp. 10TA13, Sept. 2016.
• Tomoaki Yamada, Youhei Ebihara, Takanori Kiguchi, Osami Sakata, Hitoshi Morioka, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Toyohiko J. Konno, Masahito Yoshino, Takanori Nagasaki. Fabrication and characterization of (111)-epitaxial Pb(Zr0.35Ti0.65)O3/Pb(Zr0.65Ti0.35)O3 artificial superlattice thin films, Jpn. J. Appl. Phys., vol. 55, pp. 10TA20-1-5, Sept. 2016.
• Takanori Mimura, Kiliha Katayama, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Formation of (111) orientation-controlled ferroelectric orthorhombic HfO2 thin films from solid phase via annealing, Appl. Phys. Lett., vol. 109, pp. 052903-1-4, Aug. 2016.
• Yosuke Hamasaki, Takao Shimizu, Shintaro Yasui, Tomoyasu Taniyama, Osami Sakata, Mitsuru Itoh. Crystal Isomers of ScFeO₃, Crystal Growth & Design, vol. 16, No. 9, pp. 5214-5222, July 2016.
• Takahisa Shiraishi, Kiliha Katayama, Tatsuhiko Yokouchi, Takao Shimizu, Takahiro Oikawa, Osami Sakata, Hiroshi Uchida, Yasuhiko Imai, Takanori Kiguchi, Toyohiko J. Konno, Hiroshi Funakubo. Impact of mechanical stress on ferroelectricity in (Hf0.5Zr0.5)O2 thin films, Appl. Phys. Lett., vol. 108, pp. 262904-1-5, June 2016.
• Kiliha Katayama, Takao Shimizu, Osami Sakata, Takahisa Shiraishi, Shogo Nakamura, Takanori Kiguci, Akihiro Akama, Toyohiko J. Kono, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Orientation control and domain structure analysis of {100}-oriented epitaxial ferroelectric orthorhombic HfO2-based thin films, J. Appl. Phys., vol. 119, pp. 134101-1-7, Apr. 2016.
• Takahisa Shiraishi, Hiro Einishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Nobuhiro Kumada, Takanori Kiguchi, Toyohiko J. Konno. Crystal Structure and Compositional Analysis of Epitaxial (K0.56Na0.44)NbO3 Films Prepared by Hydrothermal Method, J. Mater. Res., Vol. 31, pp. 693-701, Mar. 2016.
• Mutsuo Uehara, Kensuke Akiyama, Takao Shimizu, Masaaki Matsushima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Preparation of Ca–Si Films on (001) Al2O3 Substrates by an RF Magnetron Sputtering Method and Their Electrical Properties, Journal of Electronic Materials, Vol. 45, No. 6, pp. 3121-3126, Mar. 2016.
• Junichi Kimura, Itaru Takuwa, Masaaki Matsushima, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Toyohiko J. Konno, Tatsuo Shibata, Minoru Osada, Takayoshi Sasaki, Hiroshi Funakubo. Thermally stable dielectric responses in uniaxially (001)-oriented CaBi4Ti4O15 nanofilms grown on a Ca2Nb3O10- nanosheet seed layer, Sci. Rep., Vol. 6, pp. 20713-1-9, Feb. 2016.
• Junichi Kimura, Hiroki Taniguchi, Takashi Iijima, Takao Shimizu, Shintaro Yasui, Mitsuru Itoh, Hiroshi Funakubo. High Temperature Stability of the Dielectric and Insulating Properties of Ca(Ti, Zr)SiO₅ Ceramics, Applied Physics Letters, vol. 108, No. 6, pp. 062902 1-5, Feb. 2016.
• Hiroki Tanaka, Tetsuro Kariya, Takao Shimizu, Kiyoshi Uchiyama, Hiroshi Funakubo. Growth of {110}-one-axis-oriented perovskite-type oxide films using self-aligned epitaxial (101)PdO//(111) Pd double layers, Thin Solid Films, Vol. 599, pp. 133-137, Jan. 2016.
• Junichi Kimura, Mohamed-Tahar Chentir, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Simultaneous achievement of high dielectric constant and low temperature dependence of capacitance in (111)-oriented BaTiO3-Bi(Mg0.5Ti0.5)O3-BiFeO3 solid solution thin films, AIP ADVANCES, Vol. 6, pp. 015304-1-7, Jan. 2016.
• Tomoaki Yamada, Daisuke Ito, Osami Sakata, Junki Kuroishi, Takahiro Namazu, Yasuhiko Imai, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Masahito Yoshino, Takanori Nagasaki. Domain structure of tetragonal Pb(Zr,Ti)O3 nanorods and its size dependence, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 54, pp. 10NA07-1-4, Sept. 2015.
• Tomoaki Yamada, Jun Yasumoto, Daisuke Ito, Osami Sakata, Yasuhiko Imai, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Masahito Yoshino, Takanori Nagasaki. Negligible Substrate Clamping Effect on Piezoelectric Response in (111)-Epitaxial Tetragonal Pb(Ti, Zr)O3 Films, J. Appl. Phys., Vol. 118, pp. 072012-1-6, Aug. 2015.
• M. Hoffmann, U. Schroeder, T. Schenk, T. Shimizu, H. Funakubo, O. Sakata, D. Pohl, M. Drescher, C. Adelmann, R. Materlik, A. Kersch, T. Mikolajick. Stabilizing the ferroelectric phase in doped hafnium oxide, J. Appl. Phys., Vol. 118, pp. 072006-1-6, Aug. 2015.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Hiroshi Funakubo. Growth of epitaxial orthorhombic YO1.5-substituted HfO2 thin film, Appl. Phys. Lett., Vol. 107, pp. 032910-1-5, July 2015.
• Daichi Ichinose, Takaaki Nakashima, Yoshitaka Ehara, Takahiro Oikawa, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo. Orientation control of epitaxial tetragonal Pb(ZrxTi1-x)O3 thin films grown on (100)KTaO3 substrates by tuning the Zr/(Zr+Ti) ratio, Appl. Phys. Lett., Vol. 107, pp. 022902-1-5, July 2015.
• Takao Shimizu, Tatsuhiko Yokouchi, Takahiro Oikawa, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Alexei Gruverman, Hiroshi Funakubo. Contribution of oxygen vacancies to the ferroelectric behavior of Hf0.5Zr0.5O2 thin films, Appl. Phys. Lett., Vol. 106, pp. 112904-1-5, Mar. 2015.
• Hiroki Moriwake, Ayako Konishi, Takafumi Ogawa, Koji Fujimura, Craig A. J. Fisher, Akihide Kuwabara, Takao Shimizu, Shintaro Yasui, Mitsuru Itoh. Ferroelectricity in Wurtzite Structure Simple Chalcogenide, Applied Physics Letters, vol. 104, No. 24, pp. 242909 1-3, June 2014.
• Y. Fujii, M. Noju, T. Shimizu, H. Taniguchi, M. Itoh, I. Nishio. Raman Tensor Analysis of Crystalline Lead Titanate by Quantitative Polarized Spectroscopy, Ferroelectrics, vol. 462, pp. 8-13, May 2014.
• Yosuke Hamasaki, Takao Shimizu, Hiroki Taniguchi, Tomoyasu Taniyama, Shintaro Yasui, Mitsuru Itoh. Epitaxial Growth of Metastable Multiferroic AlFeO₃ Film on SrTiO₃ (111) Substrate, Applied Physics Letters, vol. 104, No. 8, pp. 082906 1-5, Feb. 2014.
• N. Kaneko, T. Shiraishi, M. Kurosawa, T. Shimizu, H. Funakubo. Low Temperature Preparation of KNbO3 Films by Hydrothermal Method and Their Characterization, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., Vol. 1659, 2014.
• Atsuo Katagiri, Shota Ogawa, Takao Shimizu, Masaaki Matsushima, Kensuke Akiyama, Hiroshi Funakubo. High Temperature Reproducible Preparation of Mg2Si Films on (001)Al2O3 substrates Using RF Magnetron Sputtering Method, Mater. Res. Soc. Symp. Proc, Vol. 1642, 2014.
• Junichi Kimura, Chentir Mohamed-Tahar, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Lead- and alkaline-metal-free BaTiO3 - Bi(Mg0.5Ti0.5)O3 - BiFeO3 solid solution thin films with high dielectric constant prepared on Si substrates by solution-based method., Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 53, pp. 09PA12-1-6, 2014.
• Takao Shimizu, Tatsuhiko Yokouchi, Takahisa Shiraish, Takahiro Oikawa, P. S. Sankara Rama Krishnan, Hiroshi Funakubo. Study on the effect of heat treatment conditions on metalorganic-chemical-vapor-deposited ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin film on Ir electrode, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 53, pp. 09PA04-1-6, 2014.
• Shota Ogawa, Atsuo Katagiri, Takao Shimizu, Masaaki Matsushima, Kensuke Akiyama, Yoshisato Kimura, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Electrical Properties of (110)-Oriented Nondoped Mg2Si Films with p-Type Conduction Prepared by RF Magnetron Sputtering Method, J. Electronic Mater., Vol. 43, No. 6, pp. 2269-2273, 2014.
• Takao Shimizu, Dai Suwama, Hiroki Taniguchi, Tomoyasu Taniyama, Mitsuru Itoh. Comparative Study of Phase Transition in BaTiO₃ Thin Film Grown on (001)- and (110)-Oriented SrTiO₃ Substrate, Journal of Physics: Condensed Matter, vol. 25, pp. 132001 1-5, Feb. 2013.
• Takao Shimizu, Dai Suwama, Hiroki Taniguchi, Tomoyasu Taniyama, Mitsuru Itoh. Structural Modification and Domain Structure in a BaTiO₃ Film on (110) SrTiO₃, Applied Physics Express, vol. 6, pp. 015803 1-3, Jan. 2013.
• Takahisa Shiraishi, Noriyuki Kaneko, Hiro Einishi, Takao Shimizu, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Takeshi Kobayashi, Takanori Kiguchi, Toyohiko J. Konno, Hiroshi Funakubo. Crystal Structure Analysis of Hydrothermally-synthesized Epitaxial (KxNa1-x)NbO3 Film, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 52, pp. 09KA11-1-5, 2013.
• Takao Shimizu, Desheng Fu, Hiroki Taniguchi, Tomoyasu Taniyama, Mitsuru Itoh. Origin of the Dielectric Response in Ba_0.767Ca_0.233TiO₃, Applied Physics Letters, vol. 100, No. 10, pp. 102908 1-4, Mar. 2012.
• Hiroki Taniguchi, Hwee Ping Soon, Takao Shimizu, Hiroki Moriwake, Yue Jin Shan, Mitsuru Itoh. Mechanism for Suppression of Ferroelectricity in Cd_1-xCa_xTiO₃, Physical Review B, vol. 84, No. 17, pp. 174106 1-5, Nov. 2011.
• Takao Shimizu, Takuro Era, Hiroki Taniguchi, Desheng Fu, Tomoyasu Taniyama, Mitsuru Itoh. Phonon Dynamics in BiFeO₃ Studied by Raman Scattering, Ferroelectrics, vol. 403, No. 1, pp. 187-190, Dec. 2010.

著書

• Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Chapter 4 - Epitaxial Growth of Doped HfO2 Ferroelectric Materials, Ferroelectricity in Doped Hafnium Oxide: Materials, Properties and Devices, Woodhead Publishing, pp. 173-192, Apr. 2019.

国際会議発表 (査読有り)

• Yoshiomi Hiranaga, Yuki Noguchi, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Yasuo Cho. Research on Correlation Between Grain Boundaries and Ferroelectric Switching Behaviors Through Statistical Analysis of Local C-V Map Datasets, ISAF 2023 (IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics), July 2023.
• Kodai Aoyama, Takao Shimizu, Hideto Kuramochi, Masami Mesuda, Ryo Akiike, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Expansion of Ba and Ca solubility limit into SrSi2 thin film and their thermoelectric properties, 2019 MRS Fall Meeting & Exhibit, Dec. 2019.
• Shintaro Yasui, Yoshitaka Ehara, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Mitsuru Itoh, Yasuhiko Imai, Hiroo Tajiri, Osamu Sakata, Ichiro Takeuchi. Combinatorial Study on Piezoresponse by In-situ Synchrotron X-ray Diffraction, 10th International Workshop on Combinatorial Materials Science and Technology (COMBI2018), Oct. 2018.
• Mao Kurokawa, Mutsuo Uehara, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Kensuke Akiyama, Masaaki Matsushima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura, Atsuo Katagiri, Hiroshi Funakubo. Control of P-Type and N-Type Conduction in Thermoelectric Mg2Si Thin Films Prepared by Sputtering Method, 2017 MRS Fall Meeting, Nov. 2017.
• Y. Hiranaga, T. Mimura, T. Shimizu, H. Funakubo, Y. Cho. Dynamic Observation of Nanoscale Domain Switching Behaviors in Ferroelectric HfO2 films Using Scanning Nonlinear Dielectric Microscopy, 2017 Joint IEEE ISAF-IWATMD-PFM Conference, May 2017.
• Y. Hiranaga, T. Mimura, T. Shimizu, H. Funakubo, Y. Cho. Ferroelectric Probe Data Storage Using HfO2-Based Thin-Film Recording Media, 2017 Joint IEEE ISAF-IWATMD-PFM Conference, May 2017.
• Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiko Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Stability of Ferroelectric Phase in Epitaxial HfO2-based Films, 2017 Joint IEEE ISAF-IWATMD-PFM Conference, May 2017.
• H.Funakubo, T.Shiraishi, T.Shimizu, T.Yokouchi, T.Oikawa, H.Uchida. Effect of Stress on Ferroelectricity of (Hf0.5Zr0.5)O2 Thin Films, SSDM 2015, Sept. 2015.
• Shintaro Yasui, Yoshitaka Ehara, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Mitsuru Itoh, Yasuhiko Imai, Hiroo Tajiri, Osamu Sakata, Ichiro Takeuchi. Phase Transition Driven by Pulsed Electric Field in Epitaxial Piezoelectric Thin Films, The International Cemical Congress of Pacific Basin Societies 2015 (PACIFICHEM).
• Mitsuru Itoh, Yosuke Hamasaki, Shintaro Yasui, Akiko Ito, Tomoyasu Taniyama, Takao Shimizu, Ayako Konishi, Takafumi Ogawa, Hiroki Moriwake. Shearing-mediated Ferroelectricity: Polarization Switching Caused by the Bond Recombination of Cations, Fundamental Physics of Ferroelectrics and Related Materials 2016 (Ferro 2016).
• Shintaro Yasui, Yoshitaka Ehara, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Mitsuru Itoh, Yasuhiko Imai, Hiroo Tajiri, Osamu Sakata, Ichiro Takeuchi. Combinatorial Study of Lead-Free Piezoelectric Thin Films, 2015 International Symposium of the Electronic Ceramics Materials and its Application (ISECMA).
• S. Yasui, Y. Ehara, T. Shiraishi, T. Shimizu, H. Funakubo, M. Itoh, Y. Imai, H. Tajiri, O. Sakata, I. Takeuchi. Origin of Giant Piezoelectricity Measured by Time-resolved SXRD with Electric Field, NIMS Conference 2015.
• Shintaro Yasui, Yoshitaka Ehara, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Mitsuru Itoh, Yasuhiko Imai, Hiroo Tajiri, Osami Sakata, Ichiro Takeuchi. Combinatorial Study of Lead-free Piezoelectric Thin Films: A System of Ferroelectric-antiferroelectric Phase Transition in (Bi,Sm)FeO3 Films at a Morphotropic Phase Boundary, 14th Conference of the Euroipean Ceramic Society (ECerS 2015).
• Shintaro Yasui, Yusuke Ishimoto, Takao Shimizu, Tomoyasu Taniyama, Mitsuru Itoh. Thermal Conductivity of Hexagonal Barium Titanate Single Crystal, 17th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics.

国内会議発表 (査読有り)

• 清水荘雄, 符徳勝, Sugata Ray, 谷口博基, 谷山智康, 腰原伸也, 松尾陽太郎, 伊藤満. 強誘電体をマトリックスとする新しい希釈磁性体単結晶Fe-ドープc-BaTiO₃, 日本物理学会 2007年春季大会, Mar. 2007.
• 森分 博紀, 小西 綾子, 小川 貴史, Craig Fisher, 桑原 彰秀, 清水 荘雄, 安井 伸太郎, 伊藤 満. ウルツ鉱型結晶構造ZnO薄膜の強誘電性, 日本物理学会第72回年次大会.
• 濵嵜 容丞, 安井 伸太郎, 谷山 智康, 清水 荘雄, 小西 綾子, 森分 博紀, 伊藤 満. k-Al2O3型鉄基酸化物の強誘電性と分極反転, 第6回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会.
• 濵嵜 容丞, 安井 伸太郎, 谷山 智康, 清水 荘雄, 小西 綾子, 森分 博紀, 伊藤 満. k-Al2O3型酸化物の強誘電性, 誘電体･磁性体若手 夏の学校～強的秩序材料のマルチプローブ計測に関わる最先端技術～.
• 安井 伸太郎, 石本 雄介, 谷山 智康, 伊藤 満, 清水 荘雄. 六方晶チタン酸バリウム単結晶の熱電特性, 第33回強誘電体応用会議.
• 濵嵜 容丞, 清水 荘雄, 安井 伸太郎, 谷山 智康, 伊藤 満. ScFeO3アイソマー, 日本化学会第96春季年会 (2016).
• 濵嵜 容丞, 安井 伸太郎, 谷山 智康, 清水 荘雄, 小西 綾子, 森分 博紀, 白石 貴久, 赤間 章裕, 木口 賢紀, 伊藤 満. k-Al2-O3型MexFe2-xO3エピタキシャル薄膜の構造と強誘電性(II), 第63回応用物理学会春季学術講演会.
• 濵嵜 容丞, 安井 伸太郎, 谷山 智康, 清水 荘雄, 小西 綾子, 森分 博紀, 白石 貴久, 赤間 章裕, 木口 賢紀, 伊藤 満. k-Al2-O3型MexFe2-xO3エピタキシャル薄膜の構造と強誘電性(I), 第63回応用物理学会春季学術講演会.
• 濵嵜 容丞, 安井 伸太郎, 谷山 智康, 伊藤 満, 清水 荘雄, 小西 綾子, 森分 博紀, 白石 貴史, 赤間 章裕, 木口 賢紀. k-Al2O3型酸化物薄膜の分極反転と強誘電性(II), 日本セラミックス協会2016年年会.
• 濵嵜 容丞, 安井 伸太郎, 谷山 智康, 伊藤 満, 清水 荘雄, 小西 綾子, 森分 博紀, 白石 貴史, 赤間 章裕, 木口 賢紀. k-Al2O3型酸化物薄膜の分極反転と強誘電性(I), 日本セラミックス協会2016年年会.
• 伊藤 満, 濵嵜 容丞, 安井 伸太郎, 清水 荘雄, 谷山 智康. ABO3酸化物の薄膜化による相制御と物性測定, 2015年セラミックス総合研究会.
• 森分 博紀, 小西 綾子, 小川 貴史, クレイグ フィッシャー, 桑原 彰秀, 清水 荘雄, 安井 伸太郎, 伊藤 満. ウルツ鉱型ZnO薄膜の強誘電性に関する第一原理計算, 第34回強誘電体応用会議.

国際会議発表 (査読なし・不明)

• Tomoaki Yamada, Yuto Ota, Xueyou Yuan, Daisuke Ichinose, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Masahito Yoshino, Hiroshi Funakubo, Takanori Nagasaki. Domain Structure Evolution in Tensile-strained (PbxSr1-x)TiO3 Thin Films below 50 nm Thickness, ISFD-15 (15th International Symposium on Ferroic Domains & Micro- to Nano-scopic Structures), Aug. 2022.
• Ryoichi Mizutani, Shinnosuke Yasuoka, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Temperature dependence of ferroelectricity in (Al1-xScx)N thin films, Dec. 2021.
• Hidehisa Inoue, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Crystal Structure Change with Electric Field for Pb(Zr,Ti)O3 Films with Near Phase Transition Composition Prepared by MOCVD, 2019 MRS Fall Meeting & Exhibit,, Dec. 2019.
• Takao Shimizu, Yoshitaka Ehara, Takanori Mimura, Shintaro Yasui, Tomoaki Yamada, Yasuhiko Imai, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. The Domain Switching in Rhombohedral PZT Observed by In Situ X-Ray Diffraction Study by Various Frequencies, 2019 MRS Fall Meeting & Exhibi, Dec. 2019.
• M. Kodera, A. Taguchi, T. Shimizu, H. Moriwake, H. Funakubo. Dielectric properties of ReO3-type oxyfluorides prepared by hydrothermal synthesis, MRM2019 (Materials Resezrh Meeting 2019), Dec. 2019.
• Hiroshi Funakubo, Takanori Mimura, Takao Shimizu. Phase stability and property control of ferroelectric HfO2 films, MRM2019 (Materials Resezrh Meeting 2019), Dec. 2019.
• Hidehisa Inoue, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Crystal Structure Change of Tetragonal {100}-oriented Pb(Zr,Ti)O3 Films by Poling Process and under Applying Electric Field, 19th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2019.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Stability of Ferroelectric Orthorhombic Phase in Epitaxial HfO2-based Films, 19th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2019.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi Funakubo. Recent Progress on Ferroelectric HfO2 Epitaxial Films, 19th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2019.
• Yu-ki Tashiro, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Preparation and Characterization of Y, Zr-doped HfO2 Thin Film by PLD Method, 19th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2019.
• Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Toyohiko J. Konno. Nanodomain Structure of Ferroelectric HfO2-Based Epitaxial Thin Films, PACRIM13 (The 13th Pacific Rim Conference of Ceramic Societies), Oct. 2019.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi Funakubo. The phase stability and epitaxial growth of HfO2-based ferroelectric materials, PACRIM13 (The 13th Pacific Rim Conference of Ceramic Societies), Oct. 2019.
• T. Mimura, T. Shimizu, Y. Katsuya, O. Sakata, H. Funakubo. Thickness- and orientationdependence of Curie temperature of ferroelectric epitaxial HfO2 based films, SSDM 2019 (2019 International Conference on Solid State Devices and Materials), Sept. 2019.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, HIROSHI FUNAKUBO. Preparation of ferroelecttic HfO2 film with a nm-order thickness, CJFMA11 (The 11th China and Japan Symposium on Ferroelectric Materials and TheirApplications), Sept. 2019.
• Yu-ki Tashiro, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Preparation and characterization of Y, Zr-doped HfO2 thin films by PLD method, CJFMA11 (The 11th China and Japan Symposium on Ferroelectric Materials and TheirApplications), Sept. 2019.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi Funakubo. Ferroelectricity in thick HfO2-based films, ISIF 2019 (7th International Symposium on Intagrated Functionalities), Aug. 2019.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Thickness-dependent crystal structure of epitaxial ferroelectric 0.07YO1.5-0.93HfO2 and HZO films, ISIF 2019 (7th International Symposium on Intagrated Functionalities), Aug. 2019.
• Hiroshi Funakubo, Takanori Mimura, Takao Shimizu. Fundamental Characteristics of Ferroelectric HfO2 Using Epitaxial Films, Asia-Pacific PFM 2019, Aug. 2019.
• Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Toyohiko J. Konno. Nanostructure Analyses of Hafnia-Based Ferroelectric Thin Films by Aberration-Corrected Electron Microscopy, PRICM 10 (The 10th International Conference Pacific Rim on Advanced Materials and Processing), Aug. 2019.
• Miyu Hasegawa, Takao Shimizu, Yusuke Sato, Wakiko Yamaoka, Mirai Ishida, Hiroshi Funakubo. Piezoelectric Responses in Tetragonal (Bi, Na)TiO3-BaTiO3 Films, F2cπ2 2019 (Joint ISAF-ICE-EMF-IWPM-PFM meeting 2019), July 2019.
• Hiroshi Funakubo, Naoya Ohshima, Hidehisa Inoue, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida. Crystal Structure Change with Applying an Electric Filed in Pb(Zr, Ti)O3 Films for MEMS Applications, F2cπ2 2019 (Joint ISAF-ICE-EMF-IWPM-PFM meeting 2019), July 2019.
• Kodai Aoyama, Takao Shimizu, Hideto Kuramochi, Masami Mesuda, Ryo Akiike, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Thermoelectric property of MxSr1-xSi2 (M = Ca, Ba) film prepared by co-sputtering method, The Fifth Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicates and Related Materials, July 2019.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi Funakubo. Robust Ferroelectricity in Y-Doped HfO2 Films, F2cπ2 2019 (Joint ISAF-ICE-EMF-IWPM-PFM meeting 2019), July 2019.
• Hiroshi Funakubo, Naoya Oshima, Hidehisa Inoue, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida. Enhancement of piezoelectric response in {100}-oriented films using extrinsic contribution, GFMAT-2/Bio-4 (2nd Global Forum on Advanced Materials and Technologies for Sustainable Development / 4th International Conference on Innovations in Biomaterials, Biomanufacturing, and Biotechnologies), July 2019.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi funakubo. Robust ferroelectricity in thick HfO2-based film, STAC-11 (The 11th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics), July 2019.
• A. Katagiri, M. Uehara, T. Shimizu, M. Matsushima, K. Akiyama, H. Uchida, Y. Kimura, H. Funakubo. Preparation of Mg2Si-based thin films and these properties, APAC-SILICIDE 2019 (The Fifth Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials), July 2019.
• Akinori Tateyama, Yoshiharu Ito, Yoshiko Nakamura, Takao Shimizu, Yuichiro Orino, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Toyohiko Konno, Nobuhiro Kumada, Takeshi Yoshimura, Hiroshi Funakubo. Characterization of Piezoelectric Coefficient E31, F for {100}-Oriented (K, Na)NbO3 Films Prepared by Hydrothermal Method, F2cπ2 2019 (Joint ISAF-ICE-EMF-IWPM-PFM meeting 2019), July 2019.
• Hiroshi Funakubo, Takanori Mimura, Takao Shimizu. Property Control of Ferroelectric HfO2 Films, EM-NANO 2019 (The Seventh International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies), June 2019.
• H. Funakubo, N. Oshima, H. Inoue, Y. Ehara, T. Shimizu, H. Uchida. Enhancement of Piezoelectric Response in (100) -oriented Films using Extrinsic Contribution, 2019 IWATMD (2019 International Workshop on Acoustic Transduction Materials and Devices), May 2019.
• Hiroshi Funakubo, Mutsuo Uehara, Mao Kurokawa, Atsuo Katagiri, Kensuke Akiyama, Takao Shimizu, Masaaki Matsusima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura. Composition Dependency of Thermoelectric Properties in Ca-Mg-Si System Using Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering Method, 2018 MRS Fall Meeting, Nov. 2018.
• Hiroshi Funakubo, Akinori Tateyama, Yoshiharu Ito, Yoshiko Nakamura, Takao Shimizu, Yuichiro Orino, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Toyohiko Konno, Nobuhiro Kumada. Growth of Orientation-Controlled (K,Na)NbO3 Thick Films at 240oC by Hydrothermal Method and Their Piezoelectric Applications, 2018 MRS Fall Meeting, Nov. 2018.
• Kodai Aoyama, Takao Shimizu, Hideto Kuramochi, Masami Mesuda, Ryo Akiike, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Characterization Crystal Phase and Thermoelectric Properties of Thin Film SrSi2, 2018 MRS Fall Meeting, Nov. 2018.
• Takahisa Shiraishi, Sujin Choi, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, HIROSHI FUNAKUBO, Toyohiko Konno. Fabrication of Ferroelectric CeO2-HfO2 Solid Solution Thin Films and Their Characterization, 2018 MRS Fall Meeting, Nov. 2018.
• Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Takanori Mimura. Phase Stability of HfO2-based Ferroelectric Materials and Their Property Control, 2018 KPS Fall Meeting, Oct. 2018.
• Hiroshi Funakubo, Akinori Tateyama, Yoshiharu Ito, Takao Shimizu, Yoshiko Nakamura, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Toyohiko J. Konno, Mutsuo Ishikawa. Preparation of Orientation-controlled (K, Na)NbO3 Thick Films by Hydrothermal Method and Their Properties, The 10th China-Japan Symposium on Ferroelectric Materials and Their Applications, Sept. 2018.
• Yoshiharu Ito, Akinori Tateyama, Yoshiko Nakamura, Takao Shimizu, Minoru Kurosawa, Hiroshi Funakubo, Hiroshi Uchida, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Toyohiko J Konno, Nobuhiro Kumada, Mutsuo Ishikawa. Growth of orientation-controlled epitaxial (K, Na)NbO3 films and their ferroelectric and piezoelectric properties, IWPMA2018 (International Workshop on Piezoelectric Materials and Applications in Actuators), Sept. 2018.
• Taisei Suzkuki, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Growth of epitaxial Y2O3-doped ferroelectric HfO2 films by sputtering method and their characterization, SSDM 2018 (2018 International Conference on Solid State Devices and Materials), Sept. 2018.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Effects of heat treatment and in situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial HfO2 based film, SSDM 2018 (2018 International Conference on Solid State Devices and Materials), Sept. 2018.
• Miyu Hasegawa, Takao Shimizu, Yusuke Sato, Wakiko Yamaoka, Mirai Ishida, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Fabrication and evaluation of (Bi, Na)TiO3-BaTiO3 based thin film by using PLD method, 12th Japan-Korea Conference on Ferroelectrics, Aug. 2018.
• Hiroshi Funakubo, Mutsuo Uehara, Mao Kurokawa, Atsuo Katagiri, Kensuke Akiyama, Takao Shimizu, Masaaki Matsusima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura. Growth of Mg-Ca-Si thick flms by RF sputtering method and their thermoelectric property, ICT 2018 (2018 International and European Conference on Thermoelectrics), July 2018.
• T. Kiguchi, T. Shiraishi, T. Shimizu, T. Mimura, H. Funakubo, T. J. Konn. Electron Microscopic Study on Domain Structure in HfO2, IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference), May 2018.
• K. Uchiyama, H. Tanaka, T. Oikawa, T. Shimizu, T. Kariya, H. Funakubo. Epitaxial Growth of (101)Pd on (111)SrTiO3 Substrate as a Buffer Layer for Perovskite-Type Oxide Thin Films, IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference), May 2018.
• H. Moriwake, A. Konishi, A. Togo, T. Shimizu, H. Funakubo. Theoretical Caluculations of Ferroelectricity in Thin-Film HfO2 Using Comprehensive Soft-Mode Analysis, IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference), May 2018.
• T. Mimura, T. Shimizu, T. Kiguchi, A. Akama, T. J. Konno, Y. Katsuya, O. Sakata, H. Funakubo. Temperature Stability of Ferroelectric Phase of Epitaxial Y-doped HfO2 Films, IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference), May 2018.
• T. Shiraishi, S. Choi, T. Shimizu, T. Kiguchi, H. Funakubo, T. J. Konno. Fabrication of CeO2-ZrO2 Solid Solution Ultrathin Films with Polar Phase, IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference), May 2018.
• A. Tateyama, Y. Ito, Y. Nakamura, T. Shimizu, Y. Orino, M. Kurosawa, H. Uchida, T. Shiraishi, T. Kiguchi, T.J. Konno, N. Kumada, H. Funakubo. Effect of Starting Material on the Deposition Behavior and Their Film Properties in Orientation-Controlled (K,Na)NbO3 Thick Films Prepared by Hydrothermal Method, IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference), May 2018.
• T. Shimizu, T. Mimura, T. Kiguchi, T. Shiraishi, A. Akama, T. J. Konno, O. Sakata, K. Yoshio, H. Funakubo. Domain switching in epitaxial ferroelectric HfO2 films, 2018 Conference on Electronic and Advanced Materials, Jan. 2018.
• T. Shimizu, N. Oshima, T. Sato, D. Ichinose, T. Yamada, O. Sakata, H. Funakubo. Direct and qualitative characterization of the 90° domain switching under applying electric field in tetragonal Pb(Zr, Ti)O3 film, 2018 PiezoMEMS Workshop, Jan. 2018.
• Y. Ito, A. Tateyama, Y. Nakamura, T. Shimizu, M. Kurosawa, H. Funakubo, H. Uchida, T. Shiraishi, T. Kiguchi, T. J. Konno, M. Ishikawa. Growth of orientation-controlled epitaxial (K, Na)NbO3 thick films and their ferroelectric and piezoelectric properties, 2018 PiezoMEMS Workshop, Jan. 2018.
• Daichi Ichinose, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo. Domain structure change by applying electric field of dominantly in-plane-polarized (100)/(001)-oriented tetragonal Pb(Zr, Ti)O3 thin film, 18th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Materials, Nov. 2017.
• Hiroshi Funakubo, Yoshiharu Ito, Takao Shimizu, Yoshiko Nakamura, Minoru Kurosawa, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Toyohiko J. Konno, Mutsuo Ishikawa. Preparation of Orientation-controlled (K, Na)NbO3 Thick Films by Hydrothermal Method and Their Properties, 18th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Materials, Nov. 2017.
• Daichi Ichinose, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada, Alexei. Gruverman, Hiroshi Funakubo. Domain structure change by applying electric field of dominantly in-plane-polarized Pb(Zr,Ti)O3 thin film, STAC-10 (The Tenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics), Aug. 2017.
• Tomoya Sato, Daichi Ichinose, Naoya Oshima, Takanori Mimura, Yuichi Nemoto, Takao Shimizu, Yasuhiko Imai, Hiroshi Uchida, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Time Response of Crystal Structure in Tetragonal Pb(Zr,Ti)O3 Films Under an Applied Electric Field, STAC-10 (The Tenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics), Aug. 2017.
• Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Thickness-dependent phase stability of epitaxial ferroelectric HfO2-based films, STAC-10 (The Tenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics), Aug. 2017.
• Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Mimura, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata. Phase stability and Property design in HfO2-based ferroelectric thin films, ICE 2017 (8th International Conference on Electroceramics), May 2017.
• Hiroshi Funakubo, Daichi Ichinose, Tomoya Sato, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada. Domain Structure propagation of tensile-strained {100}-oriented epitaxial tetragonal Pb(Zr, Ti)O3 films, PACRIM 12 (12th Pacific Rim Conference on Ceramic and Glass Technology), May 2017.
• T. Shimizu, H. Funakubo. Growth of epitaxial orthorhomibic doped HfO2 thin films, Novel High k Application Workshop 2017, Mar. 2017.
• Y. Ebihara, T. Yamada, O. Sakata, T. Kiguchi, H. Morioka, T. Shimizu, H. Funakubo, T. J. Konno, M. Yoshino, T. Nagasaki. Structural and piezoelectric properties in (111) tetragonal/rhombohedral Pb(Zr,Ti)O3 artificial superlattice thin films, AMEC 2016 (The 10th Asian Meeting on Electroceramics), Dec. 2016.
• Hiroshi Uchida, Syuhei Nakayama, Hiroaki Kawashima, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo. Chemical Solution Deposition of Hafnia-Zirconia Ultrathin Films for Ferroelectric Capacitor, AMEC 2016 (The 10th Asian Meeting on Electroceramics), Dec. 2016.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Mimura, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Epitaxial Growth of Ferroelectric HfO2-based films, ICTAM-AFM10 (International Conference on Technologically Advanced Materials & Asian Meeting on Ferroelectricity), Nov. 2016.
• Hiroshi Funakubo, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko Konno, Osami Sakata. Orientation Controlled HfO2-Based Ferroelectric Films Prepared by Solid Phase Local Epitaxial Technique for High Density Memory Applications, 2016 MRS Fall Meeting & Exhibit, Nov. 2016.
• Hiroshi Funakubo, Daichi Ichinose, Tomoya Sato, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada. Domain structure of tensile and compressive strainesd epitaxial Pb(Zr,Ti)O3 films with {100} orientation, 2016 ISFD-13 Conference, Oct. 2016.
• H. Funakubo, J. Kimura, I. Takuwa, M. Matsushima, T. Shimizu, H. Uchida. High temperature dielectric properties of orientation controlled bismuth layer-structured dielectric films, JCFMA8, Sept. 2016.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Mimura, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Ferroelectricity in epitaxial and well-oriented texutured Y-doped HfO2 films, KJCFE 11th (11th Korea-Japan Conference on Ferroelectrics), Aug. 2016.
• Z. Chen, Y. Hiranaga, T. Shimizu, K. Katayama, T. Mimura, H. Funakubo, Y. Cho. Ferroelectric nanodomain observation in yttrium-doped HfO2 using scanning nonlinear dielectric microscopy, ISAF/ECAPD/PFM 2016 (2016 Joint IEEE International Symposium on the Applications of Ferroelectrics, European Conference on Applications of Polar Dielectrics & Workshop on Piezoresponse Force Microscopy), Aug. 2016.
• Daichi Ichinose, Takaaki Nakashima, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo. Formation process of epitaxial tetragonal Pb(Zr, Ti)O3 thin film, ISAF/ECAPD/PFM 2016 (2016 Joint IEEE International Symposium on the Applications of Ferroelectrics, European Conference on Applications of Polar Dielectrics & Workshop on Piezoresponse Force Microscopy), Aug. 2016.
• Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J Konno, Osami Sakata. Fundamental Understanding of Ferroelectricity in HfO2-based Ferroelectrics, ISAF/ECAPD/PFM 2016, Aug. 2016.
• Hiroshi Funakubo, Daichi Ichinose, Takaaki Nakashima, Yoshitaka Ehara, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada. Domain Formation of Epitaxial Tetragonal Pb(Zr, Ti)O3 Thin Films Grown Under Tensile Strain, TOPO 2016, Aug. 2016.
• Mao Kurokawa, Mutsuo Uehara, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Kensuke Akiyama, Masaaki Matsushima, Hiroshi Uchida, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Preparation of Mg2Si Thin Films on Various Kinds of Substrates and their Thermoelectric Properties, APAC-SILICIDE 2016 (Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials), July 2016.
• Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Growth of orientation-controlled ferroelectric HfO2 thin films by solid phase crystallization and their characterization, 2016 Joint RCBJSF-IWRF Conference, June 2016.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Preparation of fluorite-structured ferroelectric thin films and their characterization, 2016 Joint RCBJSF-IWRF Conference, June 2016.
• Hiroshi Funakubo, Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko Konno, Osami Sakata. Growth of Orientation-Controlled Ferroelectric HfO2 Thin Films for Next Generation Ferroelectric Devices, ISCSI-Ⅶ/ISTDM 2016, June 2016.
• M. Uehara, M. Kurokawa, K. Akiyama, T. Shimizu, M. Matsushima, H. Uchida, Y. Kimura, H. Funakubo. Thermoelectric characterization of sputtered Ca-Mg-Si films, EMA 2016, Jan. 2016.
• H. Funakubo, J. Kimura, I. Takuwa, M. Matsushima, T. Shimizu, H. Uchida, T. Shibata, M. Osada, T. Sasaki. High temperature dielectric properties of c-axis oriented bismuth layer-structured dielectric films prepared on Si and Glass substrates using nanosheets buffer layer, EMA 2016, Jan. 2016.
• Tomoaki Yamada, Daisuke Ito, Osami Sakata, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Takao Shimizu, MasahitoYoshino, Hiroshi Funakubo, Takanori Nagasaki. Domain structure and piezoelectric response of self-assembled tetragonal Pb(Zr,Ti)O3 Nanorods, Pacifichem 2015, Dec. 2015.
• Takao Shimizu, Kiriha Katayama, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Shogo Nakamura, Toyohiko Konno, Hiroshi Funakubo. Ferroelectricity in HfO2-based epitaxial thin film, Pacifichem 2015, Dec. 2015.
• T. Yamada, D. Ito, O. Sakata, T. Kiguchi, T. Shiraishi, T. Shimizu, H. Funakubo, M. Yoshino, T. Nagasaki. Size Dependence of Domain Structure in Tetragonal Pb(Zr,Ti)O3 Nanorods, 17th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2015.
• Takao Shimizu, Kiriha Katayama, Tatsuhiko Yokouchi, Takahiro Oikawa, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Toyohiko Konno, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Preparation of Fluorite-Structured Ferroelectric Thin Films and Their Characterization, 015 International Workshop on Dielectric Thin Films for future electron devices-science and technology, Nov. 2015.
• Daichi Ichinose, Takaaki Nakashima, Yoshitaka Ehara, Takahiro Oikawa, Takao Shimizu, Osami Sakata, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo. Orientation Control of Epitaxial Tetragonal Pb(Zr, Ti)O3 Thin Films Grown on (100)KTaO3 Substrates by Tuning the Zr/(Zr+Ti) Ratio, 17th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2015.
• Kiliha Katayama, Takao Shimizu, Osami Sakata, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Syogo Nakamura, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Growth and Structural Analysis of Epitaxial Orthorhombic YO1.5-HfO2 Thin Films, 17th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2015.
• Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Shougo Nakamura, Takahisa Shiraishi, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Growth of Epitaxial Orthorhombic YO1.5-Substituted HfO2 Thin Film, 17th US-Japan Seminar on Dielectric and Piezoelectric Ceramics, Nov. 2015.
• K. Katayama, T. Shimizu, O. Sakata, T. Kiguchi, A. Akama, T. J. Konno, S. Nakamura, H. Uchida, H. Funakubo. Growth and structural analysis of epitaxial orthorhombic YO1.5-HfO2 thin films, NIMS Conference 2015, July 2015.
• M. Uehara, K. Akiyama, M. Matsushima, T. Shimizu, H. Uchida, Y. Kimura, H. Funakubo. Phase Identification of Ca-Si Films prepared on (001) Al2O3 Substrates Using X-ray Diffraction Wide Area Reciprocal Space Mapping Method, July 2015.
• T. Yamada, D. Ito, O. Sakata, J. Yasumoto, T. Shiraishi, T. Shimizu, M. Yoshino, H. Funakubo, T. Nagasaki. Domain Structure and Piezoelectric Response in Epitaxial PZT 1D-Nanorods and 2D-Thin Films, EM-NANO 2015, June 2015.
• Uwe SCHROEDER, Tony SCHENK, Claudia RICHTER, M. HOFFMANN, Dominik MARTIN, T. SHIMIZU, Hiroshi FUNAKUBO, Darius POHL, Christoph ADELMANN, R. MATERLIK, Alfred KERSCH, X. SANG, James LEBEAU, Sergei V. KALININ, Thomas MIKOLAJICK. Searching for the Origin of the Ferroelectric Phase in HfO2, ISAF-ISIF-PFM 2015, May 2015.
• T. Shimizu, H. Funakubo. Ferroelectricity of HfO2-based thin Films, International Workshop on Topological Structures in Ferroic Materials 2015, May 2015.
• Daisuke ITO, Tomoaki YAMADA, Osami SAKATA, Junki KUROISHI, Takahiro NAMAZU, Takahisa SHIRAISHI, Takao SHIMIZU, Hiroshi FUNAKUBO, Masahito YOSHINO, Takanori NAGASAKI. Fabrication of Tetragonal Pb(Zr,Ti)O3 Nanorods by Focused Ion Beam and Characterization of the Domain Structure, ISAF-ISIF-PFM 2015, May 2015.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. エピタキシャルHfO2基膜を用いた直方晶相安定化の調査, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 小寺正徳, 田口綾子, 清水荘雄, 森分博紀, 舟窪 浩. ReO3構造を有する酸フッ化物薄膜の誘電特性, 日本セラミックス協会2020年年会, Mar. 2020.
• 伊東良晴, 舘山明紀, 清水荘雄, 黒澤実, 舟窪浩. 水熱合成法を用いたエピタキシャル(Bi, K)TiO3薄膜の合成と評価, 日本セラミックス協会2020年年会, Mar. 2020.
• 志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 舟窪浩. スパッタリング法によるHfO2基強誘電体厚膜の室温製膜とその電気特性評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 石濱圭佑, 舘山明紀, 清水荘雄, 佐藤裕介, 山岡和希子, 石田未来, 舟窪浩. PLD法で作製した正方晶(1-x)(Bi,Na)TiO3-xBaTiO3膜の評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 舘山明紀, 伊東良晴, 清水荘雄, 折野裕一郎, 黒澤実, 舟窪浩. 水熱合成法で作製した(KxNa1-x)NbO３自己分極膜の縦振動を用いた正逆圧電応答の同時評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 江原祥隆, 中島崇明, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 西田謙, 山田智明, 舟窪浩. 面内分極配向したPbTiO3薄膜のa1/a2ドメイン構造の膜厚依存, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 小寺正徳, 清水荘雄, 舟窪浩. Bi2SiO5エピタキシャル薄膜の結晶成長に関する検討, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 上原雅人, 安岡慎之介, 清水荘雄, 山田浩志, 秋山守人, 舟窪浩. スパッタリング法で作製したGaNおよびSc添加GaN薄膜の強誘電性評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 安岡慎之介, 清水荘雄, 上原雅人, 舟窪浩. (Al1-xScx)N薄膜の強誘電特性に及ぼす製膜条件の影響, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 小寺正徳, 舟窪浩, 清水荘雄. Bi2SiO5エピタキシャル薄膜の作製と強誘電性, 第4回元素戦略シンポジウム―産学連携研究新展開―, Feb. 2020.
• 清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩. HfO2基強誘電体の相安定性と厚膜化, 第4回元素戦略シンポジウム―産学連携研究新展開―, Feb. 2020.
• 舟窪浩, 伊藤満, 和田智志, 大橋直樹, 谷口博基, 清水荘雄. パワーデバイスやIoT用途の誘電体材料の創出, 第4回元素戦略シンポジウム―産学連携研究新展開―, Feb. 2020.
• 田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 木口賢紀, 白石貴久, 今野豊彦, 舟窪浩. HfO2基薄膜のZr, Yドープによる結晶相変化と強誘電相の安定性, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• 石濱圭佑, 舘山明紀, 清水荘雄, 佐藤裕介, 山岡和季子, 石田未来, 舟窪浩. PLD法で作製した正方晶(1-x)(Bi,Na)TiO3-xBiTiO3膜の作製と評価, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• 安岡慎之介, 清水荘雄, 上原雅人, 舟窪浩. 二元同時スパッタリング法によるAl1-xScxN薄膜の作製と強誘電性評価, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• 井上英久, 舘山明紀, 清水荘雄, 舟窪浩. MOCVD法で作製した組成相境界近傍組成を有するエピタキシャルPZT膜の結晶構造および圧電性評価, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• 青山航大, 清水荘雄, 倉持豪人, 召田雅実, 秋池良, 井手啓介, 片瀬貴義, 神谷利夫, 舟窪浩. 二元同時スパッタ法で作製したAeSi2 膜(Ae= Ca, Sr, Ba)の構成相と電気特性, 日本セラミックス協会 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• 舟窪浩, 井上英久, 舘山明紀, 清水荘雄. 組成相境界近傍組成のPZT膜の電界による構造変化と圧電特性の評価, 東北大学金属材料研究所 共同利用・共同研究ワークショップ 強誘電体関連物質の機能発現に関する構造科学の新展開, Dec. 2019.
• 太田悠登, 山田智明, 吉野正人, 清水荘雄, 舟窪浩, 長崎正雅. 引張応力下(PbXSr1-X)TiO3薄膜の膜厚がドメイン構造に与える影響, 第39回電子材料研究討論会, Nov. 2019.
• 志村礼司郎, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. スパッタリング法を用いたY:HfO2強誘電体厚膜の作製とその電気特性評価, 第39回電子材料研究討論会, Nov. 2019.
• 舘山明紀, 伊東良晴, 清水荘雄, 折野裕一郎, 黒澤実, 吉村武, 舟窪浩. 水熱合成法で作製した(KxNa1-x)NbO3自己分極膜の圧電特性の評価, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2019.
• 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. スパッタリング法を用いたY: HfO2強誘電体膜の室温成膜, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2019.
• 太田悠登, 山田智明, 吉野正人, 清水荘雄, 舟窪浩, 長崎正雅. (PbxSr1-x)TiO3薄膜における組成及び膜厚がドメイン構造に及ぼす影響, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2019.
• 井上英久, 清水荘雄, 舟窪浩. 組成相境界近傍組成のPZT膜の電界による構造変化と圧電性の評価, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2019.
• 田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 木口賢紀, 白石貴久, 今野豊彦, 舟窪浩. HfO2基薄膜の電界誘起相転移, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2019.
• 青山 航大, 清水 荘雄, 倉持 豪人, 召田 雅実, 秋池 良, 井手 啓介, 片瀬 貴義, 神谷 利夫, 木村 好里, 舟窪 浩. 二元同時スパッタ法で作製したAeSi2膜の作製, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2019.
• 舟窪 浩, 伊東 良晴, 舘山 明紀, 清水 荘雄, 黒澤 実, 内田 寛, 白石 貴久. 水熱合成法で作製した自己配向性(K,Na)NbO3厚膜の作製と評価, 日本ゾル-ゲル学会 第17回討論会, Aug. 2019.
• 木口賢紀, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦. STEM-EELS法によるHfO2薄膜の結晶相・配向性の評価, 日本顕微鏡学会第75回学術講演会, June 2019.
• 伊東良晴, 舘山明紀, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 舟窪浩, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 熊田伸弘. 水熱合成法を用いた(K,Na)NbO3膜の原料の高効率化, 第36回強誘電体応用会議, May 2019.
• 井上英久, 清水荘雄, 舟窪浩. MOCVD法で作製した組成相境界近傍組成PZT膜の電界下X線回折測定, 第36回強誘電体応用会議, May 2019.
• 小寺正徳, 清水荘雄, 舟窪浩. PLD法を用いて作製したBi2SiO5エピタキシャル薄膜の強誘電特性, 第36回強誘電体応用会議, May 2019.
• 青山 航大, 清水 荘雄, 倉持 豪人, 召田 雅実, 秋池 良, 井手 啓介, 片瀬 貴義, 神谷 利夫, 木村 好里, 舟窪 浩. 共スパッタ法で作製したBaxSr1-xSi2膜の熱電特性, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.
• 白石貴久, Choi Sujin, 清水荘雄, 木口賢紀, 舟窪浩, 今野豊彦. 強誘電体(Hf,Ce)O2薄膜の作製とその結晶構造評価, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.
• 青山航大, 清水荘雄, 倉持豪人, 召田雅実, 秋池良, 井出啓介, 片瀬貴義, 神谷利夫, 木村好里, 舟窪浩. 共スパッタ法で作製したBaxSr1-xSi2膜の熱電特性, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.
• 小寺正徳, 清水荘雄, 舟窪浩. 水熱合成法を用いたReO3構造を有する酸フッ化物薄膜の作製と誘電特性評価, 日本セラミックス協会2019年年会, Mar. 2019.
• 木口賢紀, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦. 直方晶相ハフニア薄膜におけるドメイン構造, 日本セラミックス協会2019年年会, Mar. 2019.
• 志村礼司郎, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. スパッタリング法により配向制御したHfO2基強誘電体厚膜の作製およびその電気特性評価, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.
• 井上 英久, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 舟窪浩. 組成相境界近傍組成を有するPZT膜の電界下X線回折測定, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.
• 田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. PLD法を用いたY, ZrドープHfO2薄膜の作製と評価, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.
• 舘山明紀, 伊東良晴, 中村美子, 清水荘雄, 折野裕一郎, 黒澤実, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 熊田伸弘, 吉村 武, 舟窪浩. 水熱合成法で作製した(K,Na)NbO３配向膜の圧電定数,e31,f, の評価, 第66回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2019.
• 井上英久, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 舟窪浩. 組成相境界近傍組成のPZT膜のMOCVD合成とその圧電性評価, 第57回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2019.
• 長谷川光勇, 清水荘雄, 佐藤祐介, 山岡和希子, 石田未来, 舟窪浩. 正方晶(Bi,Na)TiO3-BaTiO3膜の90°ドメインスイッチングによる圧電特性, Jan. 2019.
• 青山航大, 清水荘雄, 倉持豪人, 召田雅実, 秋池良, 井出啓介, 片瀬貴義, 神谷利夫, 木村好里, 舟窪浩. 共スパッタ法で作製したBaxSr1-xSi2膜の作製と熱電特性評価, 第57回セラミックス基礎討論会, Jan. 2019.
• 清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩. HfO2基薄膜の相安定性と機能発現, 第57回セラミックス基礎討論会, Jan. 2019.
• 田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. PLD法を用いたY, ZrドープHfO2薄膜の作製と評価, 第57回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2019.
• 青山航大, 清水荘雄, 倉持豪人, 召田雅実, 秋池良, 井手啓介, 片瀬貴義, 神谷利夫, 木村好里, 舟窪 浩. 共スパッタ法で作製したBaxSr1-xSi2膜の作製と熱電特性評価, 第57回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2019.
• 舟窪浩, 舘山明紀, 伊東良晴, 中村美子, 折野裕一郎, 黒澤実, 清水荘雄, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 石河睦生, 熊田伸弘. 水熱法で作製する非鉛圧電体圧膜, 第21回日本セラミックス協会北陸支部秋季研究発表会, Nov. 2018.
• 伊東良晴, 舘山明紀, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 舟窪浩, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 熊田伸弘, 石河睦生. 水熱合成法による (KxNa1-x)NbO3厚膜のフレキシブル基材への製膜, 第38回エレクトロセラミックス研究討論会, Nov. 2018.
• 清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩. HfO2基強誘電体厚膜の作製と電気特性制御, 2018年度セラミックス総合研究会, Nov. 2018.
• 伊東良晴, 舘山明紀, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 舟窪浩, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 熊田伸弘, 石河睦生. 水熱合成法を用いたKNN膜の合成と物性, 第54回熱測定討論会, Oct. 2018.
• 木口賢紀, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦. S T E M - E E L S 法による直方晶相ハフニア薄膜の結晶構造評価, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.
• 志村礼司郎, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. スパッタリング法によるHfO2基強誘電体の厚膜化とその電気特性評価, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.
• 舘山明紀, 伊東良晴, 中村美子, 清水荘雄, 折野裕一郎, 黒澤実, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野 豊彦, 石河睦生, 熊田伸弘, 舟窪浩. 水熱合成法で作製した(K,Na)NbO3配向膜の圧電特性評価, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.
• 清水荘雄, 江原祥隆, 三村和仙, 安井伸太郎, 山田智明, 今井康彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩. 時間分解放射光X線回折を用いた菱面体晶 PZTにおける非180˚ドメインスイッチングの周波数応答 特性の評価, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.
• 長谷川光勇, 清水荘雄, 佐藤祐介, 山岡和希子, 石田未来, 舟窪浩. PLD法を用いた(Bi,Na)TiO3-BaTiO3系厚膜の作製とその特性評価, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.
• 木口賢紀, 崔瓍珍, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦. 直方晶相ハフニア薄膜のドメイン構造の電子エネルギー損失分光, 日本セラミックス協会 第31回秋季シンポジウム, Sept. 2018.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 三村和仙. HfO2基強誘電体の相安定性と特性制御, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.
• 舟窪浩, 舘山明紀, 伊東良晴, 中村美子, 折野裕一郎, 黒澤実, 清水荘雄, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 石河睦生, 熊田伸弘. 水熱合成(K,Na)NbO3 膜の厚膜化の検討, 日本セラミックス協会 第31回秋季シンポジウム, Sept. 2018.
• 舟窪浩, 伊東良晴, 舘山明紀, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 石河睦生. 水熱法を用いた(K,Na)NbO3配向体の低温作製とその特性評価, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.
• T. Shimizu, T. Mimura, T. Kiguchi, A. Akama, T. J. Konno, Y. Katsuya, O. Sakata, H. Funakubo. Domain Structure and Electric Field Induced Domain Switching in HfO2 Ferroelectrics, IFAAP 2018 (2018 ISAF-FMA-AMF-AMEC-PFM Joint Conference), May 2018.
• 舟窪浩, 伊東良晴, 舘山明紀, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 石河睦生. 水熱合成によるフレキシブル基板への圧電体成膜, 第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018.
• 舘山明紀, 伊東良晴, 中村美子, 清水荘雄, 折野裕一郎, 黒澤実, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野 豊彦, 石河睦生, 熊田伸弘, 舟窪浩. 種々のNb原料から水熱合成法で作製した(K,Na)NbO３配向膜の合成と特性評価, 第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018.
• 白石貴久, Sujin Choi, 清水荘雄, 木口賢紀, 舟窪浩, 今野豊彦. エピタキシャルCeO2-ZrO2薄膜の作製とその結晶構造評価, 第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018.
• 三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩. エピタキシャルHfO2基強誘電体における強誘電特性の膜厚依存性, 第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018.
• 森分博紀, 小西綾子, 東後篤史, 清水荘雄, 舟窪浩. 網羅的ソフトモードフォノン探索によるHfO2薄膜の強誘電性の理論計算, 日本セラミックス協会 2018年年会, Mar. 2018.
• 三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩. エピタキシャル成長したHfO2 基強誘電体膜における結晶構造の膜厚依存性, 日本セラミックス協会 2018年年会, Mar. 2018.
• 伊東良晴, 舘山明紀, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 舟窪浩, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 石河 睦生. 水熱合成法を用いた金属板上への(K,Na)NbO3 厚膜の合成, 日本セラミックス協会 2018年年会, Mar. 2018.
• 長谷川光勇, 清水荘雄, 佐藤祐介, 山岡和希子, 石田未来, 内田寛, 舟窪浩. PLD法を用いた(Bi,Na)TiO3-BaTiO3系薄膜の作製と評価, 第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018.
• 青山航大, 清水荘雄, 倉持豪人, 召田雅実, 秋池良, 木村好里, 舟窪浩. スパッタリング法によるSr-Si膜の作製, 第65回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018.
• 崔瓍珍, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 清水荘雄, 舟窪浩. ZrO2 薄膜の結晶構造に対するドーパント効果, 日本セラミックス協会 2018年年会, Mar. 2018.
• T. Shiraishi, S. Choi, T. Shimizu, T. Kiguchi, H. Funakubo, T. J. Konno. Fabrication of HfO2-based ferroelectric ultrathin films, Kich-off Symposium for World Leading Research Center –Materials Science and spintronics-, Feb. 2018.
• 舘山明紀, 伊東良晴, 中村美子, 清水荘雄, 折野裕一郎, 黒澤実, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 熊田伸弘, 舟窪浩. 水熱合成法で作製した配向制御された(K, Na)NbO3膜の析出挙動に及ぼす出発原料の影響と得られた膜の特性評価, 第56回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2018.
• 長谷川光勇, 清水荘雄, 佐藤祐介, 山岡和希子, 内田寛, 舟窪浩. PLD法を用いた(Bi, Na)TiO3-BaTiO3系薄膜の作製と評価, 第56回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2018.
• K. Uchiyama, H. Tanaka, T. Shimizu, H. Funakubo. Development of Proton Concoctive Perovskite-type Oxide Thin Films for Fuel Cell Application, 第27回日本ＭＲＳ年次大会, Dec. 2017.
• 舟窪浩, 伊東良晴, 舘山明紀, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 内田寛, 白石 貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 石河睦生. 水熱法による酸化物厚膜の成長, 第37回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2017.
• 岡本一輝, 山田智明, 坂田修身, 清水荘雄, 舟窪浩, 吉野正人, 長崎正雅. (111)正方晶PbZr0.35Ti0.65O3 ナノロッドのサイズ制御による圧電特性の増大, 第37回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2017.
• 清水荘雄, 三村和仙, 木口賢紀, 白石貴久, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 勝矢良雄, 舟窪浩. HfO2基強誘電体のドメイン構造と電場誘起スイッチング, 第37回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2017.
• 山田智明, 松尾翔吾, 加茂崇史, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 吉野正人, 長崎正雅. ペロブスカイト型および蛍石型強誘電体薄膜の電気熱量効果, 2017年強的秩序とその操作に関する第5回研究会, Sept. 2017.
• 舟窪浩, 清水荘雄. 強誘電体材料の比較 –ペロブスカイト基構造 vs. 蛍石基構造-, 2017年強的秩序とその操作に関する第5回研究会, Sept. 2017.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 三村和仙. HfO2基強誘電体の相安定性とその特性制御, 2017年度セラミックス総合研究会, Sept. 2017.
• 平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄. 強誘電性HfO2薄膜におけるナノスケール分極反転ドット書き込み, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 坂田修身, 舟窪浩, 清水荘雄, 一ノ瀬大地, 今井康彦, 清水勝. エピタキシャルBiFeO3薄膜における電場印加下の格子歪, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 崔ス珍, 白石貴久, 木口賢紀, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦. ドーパント添加ZrO2エピタキシャル薄膜の結晶構造と電気特性調査, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 松尾翔吾, 山田智明, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 吉野正人, 長崎正雅. Y添加HfO2エピタキシャル薄膜における負の電気熱量効果, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 白石貴久, Choi Sujin, 清水荘雄, 舟窪浩, 木口賢紀, 今野豊彦. 固相エピタキシー法による強誘電体HfO2基薄膜の作製, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 佐藤智也, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 清水荘雄, 山田智明, 舟窪浩. エピタキシャルPZT膜におけるマルチドメイン構造と面内歪の緩和, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. スパッタリング法による{100}配向Y2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜の作製とその評価, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩. Y2O3-HfO2強誘電体の温度安定性, 第78回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2017.
• 清水荘雄, 三村和仙, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩. HfO2基材料における強誘電相発現要因の検討, 日本セラミックス協会第30回秋季シンポジウム, Sept. 2017.
• 伊東良晴, 中村美子, 清水荘雄, 黒澤実, 舟窪浩, 内田寛, 木口賢紀, 白石貴久, 今野豊彦, 石河睦生. KNN配向膜の高速成膜法の検討, 日本セラミックス協会第30回秋季シンポジウム, Sept. 2017.
• 森分博紀, 小西綾子, 東後篤史, 清水荘雄, 舟窪浩. 網羅的ソフトモードフォノン探索によるHfO2薄膜の強誘電性の理論計算, 日本物理学会2017年秋季大会, Sept. 2017.
• 清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩. HfO2基強誘電体エピタキシャル薄膜研究の最近の進展, 第34回強誘電体応用会議（FMA34）, May 2017.
• 平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄. SNDMによる分極反転過程の動的観察, 第34回強誘電体応用会議（FMA34）, May 2017.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 黒澤実, 内田寛, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 石河睦生. 水熱法を用いた(K,Na)NbO3配向体の作製とその特性評価, 日本セラミックス協会2017年年会, Mar. 2017.
• 白石貴久, Choi Sujin, 清水 荘雄, 舟窪 浩, 木口賢紀, 今野豊彦. エピタキシャルFe:HfO2薄膜の作製と特性評価, 第64回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2017.
• 三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩. エピタキシャルHfO2基膜における強誘電相の安定性 -RE2O3-HfO2 vs ZrO2-HfO2-, 第64回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2017.
• 鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. スパッタリング法によるY2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜作製とその評価, 第64回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2017.
• 平永良臣, 三村和仙, 清水 荘雄, 舟窪浩, 長康雄. 走査型非線形誘電率顕微鏡を用いたナノスケール分極反転過程の動的観察, 第64回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2017.
• 佐藤智也, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 根本祐一, 清水荘雄, 今井康彦, 内田寛, 坂田修身, 舟窪浩. 電界印加下における正方晶Pb(Zr,Ti)O3膜の結晶構造の時間応答, 第64回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2017.
• 根本祐一, 佐藤智也, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 佐藤祐介, 山岡和希子, 舟窪浩. PLD法による正方晶(Bi, K)TiO3エピタキシャル膜の作製とポストアニールが強誘電性に与える影響, 第55回セラミックス協会基礎科学討論会, Jan. 2017.
• 鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. Y2O3-HfO2エピタキシャル薄膜の構成相の決定因子, 第55回セラミックス協会基礎科学討論会, Jan. 2017.
• 佐藤智也, 一ノ瀬大地, 根本祐一, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. 結晶構造の異なるPb(Zr, Ti)O3膜のドメイン構造に及ぼす電界印加の影響, 第55回セラミックス協会基礎科学討論会, Jan. 2017.
• 平永良臣, 長康雄, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. Y添加HfO2薄膜における強誘電ドメイン反転のSNDM観察, 電子情報通信学会 磁気記録・情報ストレージ研究会（MR）, Dec. 2016.
• 一ノ瀬大地, 中島祟明, 江原祥隆, 及川貴弘, 清水荘雄, 坂田修身, 山田智明, 舟窪浩. 正方晶PZT薄膜のドメイン構造の配向及び歪制御, 第36回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2016.
• 崔瓍珍, 白石貴久, 清水荘雄, 舟窪浩, 木口賢紀, 今野豊彦. Fe 添加されたZrO₂超薄膜の結晶構造調査, 日本セラミックス協会第29回秋季シンポジウム, Sept. 2016.
• 舟窪浩, 木村純一, 清水荘雄. 高温使用に対応した新規誘電体材料の探索, 日本セラミックス協会第29回秋季シンポジウム, Sept. 2016.
• 根本祐一, 一ノ瀬 大地, 清水荘雄, 内田寛, 佐藤祐介, 山岡和希子, 舟窪浩. PLD法による配向制御したエピタキシャル(Bi,K)TiO3膜の作製, 第77回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2016.
• 黒川満央, 上原睦雄, 清水荘雄, 秋山賢輔, 松島正明, 内田寛, 木村好里, 舟窪浩. 熱処理がMg2Si薄膜の伝導型に与える影響, 第77回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2016.
• 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪 浩. HfO2基強誘電体の結晶構造と特性の熱処理温度依存性, 第77回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2016.
• 清水荘雄, 三村和仙, 片山きりは, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩. 電界印加によるYO1.5-HfO2基薄膜の結晶構造変化, 第77回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2016.
• 一ノ瀬大地, 江原祥隆, 清水荘雄, 坂田修身, 山田智明, Alexei Gruverman, 舟窪浩. 面内分極軸優先配向Pb(Zr,Ti)O3薄膜のドメイン構造, 第77回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2016.
• 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 木口賢紀, 白石貴久, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩. エピタキシャルおよび配向性YドープHfO₂薄膜の強誘電性, 日本セラミックス協会第29回秋季シンポジウム, Sept. 2016.
• 舟窪 浩, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙. 配向制御したHfO2基強誘電体薄膜の作製と特性評価, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 第192回研究集会, June 2016.
• 根本 祐一, 一ノ瀬 大地, 清水 荘雄, 内田 寛, 舟窪 浩. PLD法による正方晶(Bi,K)TiO3エピタキシャル膜作製と圧電特性評価, 第33回強誘電体応用会議（FMA 33）, May 2016.
• 山田智明, 海老原洋平, 坂田修身, 森岡 仁, 木口賢紀, 清水荘雄, 舟窪 浩, 吉野正人, 長崎正雅. 正方晶/菱面体晶Pb(ZrxTi1-x)O3人工超格子界面における電荷補償が圧電特性に与える影響, 第33回強誘電体応用会議（FMA 33）, May 2016.
• 一ノ瀬大地, 中島祟明, 江原祥隆, 及川貴弘, 清水荘雄, 坂田修身, 山田智明, 舟窪 浩. Zr/(Zr+Ti)比によって歪量を連続的に制御して作成したPb(Zr,Ti)O3 エピタキシャル薄膜の構造変化, 第33回強誘電体応用会議（FMA 33）, May 2016.
• 中嶋誠二, 坂田修身, 舟窪 浩, 高山幸太, 藤沢浩訓, 清水荘雄, 一ノ瀬大地, 今井康彦, 清水 勝. 電場印加下のエピタキシャルBiFeO3薄膜における格子歪のその場観察, 第33回強誘電体応用会議（FMA 33）, May 2016.
• 黒川満央, 上原睦雄, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 秋山賢輔, 松島正明, 内田 寛, 舟窪浩. Mg2Si薄膜の熱電特性に及ぼす歪みの影響, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 山田智明, 海老原洋平, 坂田修身, 森岡 仁, 木口賢紀, 清水荘雄, 舟窪 浩, 吉野正人, 長崎正雅. 方晶/菱面体晶Pb(ZrxTi1-x)O3人工超格子薄膜における圧電応答の層厚依存性, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 内田寛. 配向制御したHfO2基強誘電体の作製とその強誘電特性評価, 日本セラミックス協会 2016年年会, Mar. 2016.
• 森分博紀, 小西綾子, 桑原彰秀, 東後篤史, 清水荘雄, 舟窪浩. HfO2薄膜における強誘電相転移に関する第一原理計算, 日本セラミックス協会 2016年年会, Mar. 2016.
• 木口賢紀, 中村奨梧, 範滄宇, 白石貴久, 今野豊彦, 清水荘雄, 舟窪浩. 固相エピタキシー法による斜方晶相HfO2-ZrO2固溶体薄膜の作製, 日本セラミックス協会 2016年年会, Mar. 2016.
• 白石貴久, 中村奨梧, 範滄宇, 片山きりは, 清水荘雄, 舟窪浩, 木口賢紀, 今野豊彦. 酸化物薄膜の構造解析～HfO2基極薄膜の斜方晶相について～, 共用・計測 合同シンポジウム2016 微細構造解析プラットフォーム・ワークショップ NIMS先端計測シンポジウム2016 合同シンポジウム, Mar. 2016.
• 陳 舟, 平永良臣, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 舟窪 浩, 長 康雄. 走査型非線形誘電率顕微鏡における強誘電性Y:HfO2薄膜のドメイン反転, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 内田 寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪 浩. 固相成長による配向制御したHfO2基強誘電体薄膜の作製と特性評価, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 根本祐一, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 内田 寛, 舟窪 浩. PLD法による正方晶(Bi,K)TiO3エピタキシャル膜作製と圧電特性評価, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 一ノ瀬大地, 江原祥隆, 清水荘雄, 坂田修身, 山田智明, 舟窪 浩. 界印加による面内分極軸優先配向Pb(Zr,Ti)O3薄膜のドメイン構造変化, 第63回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2016.
• 上原睦雄, 黒川満央, 秋山賢輔, 清水荘雄, 松島正明, 内田寛, 木村好里, 舟窪浩. スパッタリング法によるCa-Mg-Si 基膜熱電材料の特性評価, 第54回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2016.
• 片山きりは, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 内田寛, 舟窪浩. HfO2 基エピタキシャル薄膜における強誘電相の安定化, 第54回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2016.
• 三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 舟窪浩, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦. 固相成長法を用いた強誘電体HfO2 基薄膜のエピタキシャル成長と特性評価, 第54回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2016.
• 海老原洋平, 山田智明, 坂田修身, 森岡仁, 木口賢紀, 今井康彦, 清水荘雄, 舟窪浩, 吉野正人, 長﨑正雅. 正方晶/菱面体晶Pb(Zr,Ti)O3 人工超格子薄膜の構造及び圧電特性の層厚依存性, 第54回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2016.
• 根本祐一, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩. PLD 法による正方晶(Bi,,K)TiO3 エピタキシャル膜作製と圧電特性評価, 第54回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2016.
• 陳舟, 平永良臣, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 舟窪浩, 長康雄. 強誘電性Y:HfO2薄膜におけるナノスケールドメイン反転, 電子情報通信学会研究会, 2016.
• 海老原洋平, 山田智明, 坂田修身, 森岡仁, 木口賢紀, 今井康彦, 清水荘雄, 舟窪浩, 吉野正人, 長﨑正雅. 正方晶/菱面体晶P b(Zr,Ti)O3人工超格子薄膜の作製と圧電特性の評価, 平成27年度日本セラミックス協会東海支部学術研究発表会, Dec. 2015.
• 舟窪 浩, 一ノ瀬大地, 中島崇明, 江原祥隆, 及川貴弘, 清水荘雄, 山田智明. PZT膜における温度によるドメイン構造転移, 第35回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2015.
• 白石貴久, 片山きりは, 横内達彦, 清水荘雄, 及川貴弘, 内田 寛, 舟窪 浩, 木口賢紀, 今野豊彦. 種々の基板上に作製した (Hf0.5Zr 0.5)O2薄膜の特性, 第35回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2015.
• 中村奨梧, 木口賢紀, 白石貴久, 範 滄宇, 今野豊彦, 片山きりは, 清水荘雄, 舟窪 浩. 斜方晶ハフニア薄膜の強誘電相構造, 第35回エレクトロセラミックス研究討論会, Oct. 2015.
• 舟窪 浩, 大島 直也, 清水 荘雄, 中島 光雅, 江原 祥隆, 及川 貴弘, 内田 寛. XRD測定による (100)/(001)配向正方晶Pb(Zr,Ti)O3膜の電界印加下の結晶構造変化の定量分析, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 中村奨梧, 範滄宇, 白石貴久, 木口賢紀, 今野豊彦, 片山きりは, 清水荘雄, 横内達彦, 及川貴弘, 舟窪浩. ABF-STEM 法を用いた斜方晶HfO2の分極構造の解析, 日本セラミックス協会第28回秋季シンポジウム, Sept. 2015.
• 山田智明, 伊藤大介, 坂田修身, 黒石隼輝, 生津資大, 清水荘雄, 舟窪浩, 木口賢紀, 吉野正人, 長崎正雅. 正方晶Pb(Zr,Ti)O3ナノロッドのドメイン構造に及ぼす脱分極電界の影響, 日本セラミックス協会第28回秋季シンポジウム, Sept. 2015.
• 山田 智明, 伊藤 大介, 坂田 修身, 黒石 隼輝, 生津 資大, 清水 荘雄, 舟窪 浩, 吉野 正人, 長崎 正雅. {100}, {111}配向Pb(Zr,Ti)O3ナノロッドのドメイン構造とそのサイズ依存性, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 一ノ瀬 大地, 中島 崇明, 江原 祥隆, 清水 荘雄, 坂田 修身, 山田 智明, 舟窪 浩. 正方晶Pb(Zr,Ti)O3薄膜におけるZr/(Zr+Ti)比のドメイン構造への影響, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 片山 きりは, 清水 荘雄, 木口 賢紀, 赤間 章裕, 今野 豊彦, 内田 寛, 坂田 修身, 舟窪 浩. Si基板上への斜方晶エピタキシャルHfO2基薄膜の作製, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 清水 荘雄, 片山 きりは, 木口 賢紀, 赤間 章裕, 今野 豊彦, 内田 寛, 坂田 修身, 舟窪 浩. 斜方晶エピタキシャルHfO2基薄膜のドメイン構造, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 舟窪 浩, 白石 貴久, 片山 きりは, 横内 達彦, 清水 荘雄, 及川 貴弘, 内田 寛. (Hf0.5Zr0.5)O2 薄膜の強誘電性に及ぼす歪の効果, 日本金属学会２０１５年秋期講演大会, Sept. 2015.
• 舟窪 浩, 中島 崇明, 一ノ瀬 大地, 江原 祥隆, 中島 光雅, 清水 荘雄, 小林 健, 飯島 高志, 山田 智明. (100)/(001)配向エピタキシャルPbTiO3膜におけるドメイン構造に及ぼす温度と格子歪みの影響, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2015.
• 山田智明, 伊藤大介, 坂田修身, 黒石隼輝, 生津資大, 白石貴久, 清水荘雄, 舟窪 浩, 吉野正人, 長崎正雅. 正方晶Pb(Zr，Ti)O3 ナノロッドのドメイン構造とそのサイズ依存性, 第32回強誘電体応用会議（FMA 32）, May 2015.
• 片山きりは, 清水荘雄, 白石貴久, 及川貴弘, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 中村奨梧, 内田 寛, 舟窪 浩. 斜方晶相を含むエピタキシャルHfO2 基薄膜の作製と評価, 第32回強誘電体応用会議（FMA 32）, May 2015.
• 阿部千穂子, 塩川真里奈, 片山きりは, 白石貴久, 清水荘雄, 舟窪 浩, 内田 寛. CSD 由来HfO2-ZrO2 固溶体薄膜の結晶構造と誘電特性, 第32回強誘電体応用会議（FMA 32）, May 2015.
• 一ノ瀬大地, 中島祟明, 江原祥隆, 及川貴弘, 清水荘雄, 山田智明, 舟窪 浩. Zr/(Zr+Ti)比によるPb(Zr，Ti)O3 薄膜のドメイン制御, 第32回強誘電体応用会議（FMA 32）, May 2015.
• 濱嵜 容丞, 清水荘雄, 安井伸太郎, 谷山 智康, 伊藤満. エピタキシャルAl_FexO_3膜の強誘電性と磁性, 日本物理学会講演概要集, 一般社団法人日本物理学会, Vol. 69, No. 1, pp. 918, Mar. 2014.
• 谷口 博基, Soon, 森分 博紀, 単 躍進, 清水荘雄, 伊藤満. CdTiO_3の強誘電性におけるCa置換の効果, 日本物理学会講演概要集, 一般社団法人日本物理学会, Vol. 66, No. 2, pp. 974, Aug. 2011.
• 清水荘雄, 符 徳勝, 谷口 博基, 谷山 智康, 伊藤満. 強誘電体Ba_CaxTiO_3における相転移機構, 日本物理学会講演概要集, 一般社団法人日本物理学会, Vol. 66, No. 1, pp. 969, Mar. 2011.
• 清水荘雄, 符 徳勝, 谷口 博基, 谷山 智康, 伊藤満. ラマン散乱によるBa_CaxTiO_3の構造相転移の研究, 日本物理学会講演概要集, 一般社団法人日本物理学会, Vol. 65, No. 2, pp. 916, Aug. 2010.

その他の論文・著書など

• 三村和仙, 志村礼司郎, 舟窪浩, 清水荘雄. HfO2およびZrO2基強誘電体膜の厚膜化と室温合成, 超音波TECHNO, 2020年9-10号, 41-45, Sept. 2020.
• 安岡慎之介, 清水荘雄, 舟窪浩. 窒化物圧電体膜の微構造評価, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立大学法人 東北大学, 令和元年度, A-19-TU-0048, Sept. 2020.
• 井上英久, 清水荘雄, 舟窪浩. PZT膜の電圧印可による結晶構造変化, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立大学法人 東北大学, 令和元年度, A-19-TU-0003, Sept. 2020.
• 清水荘雄, 舟窪浩. ２相共存PZTにおける電場有機相転移の観察, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 令和元年度, A-19-NM-0086, Sept. 2020.
• 清水荘雄, 舟窪浩. 新規非鉛圧電体の時間分解Ｘ線回折による電場応答の観察, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 令和元年度, A-19-NM-0004, Sept. 2020.
• 清水荘雄, 舟窪浩. 圧電体のドメイン構造変化の時間応答, 高輝度放射光ステーション年次報告書2018, 2018B4900, Oct. 2019.
• 井上英久, 清水荘雄, 舟窪浩. 圧電体膜における電界印加による結晶構造変化観察, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立大学法人 東北大学, 平成30年度, A-18-TU-0043, Sept. 2019.
• 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩. 蛍石構造強誘電体薄膜の組成による結晶構造変化の観察, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立大学法人 東北大学, 平成30年度, A-18-TU-0042, Sept. 2019.
• 藤井 康裕, 清水 荘雄, 谷口 博基, 是枝 聡肇. 角度分解偏光ラマン分光による結晶性試料の振動モード解析, 日本結晶学会誌, Vol. 57, No. 5, pp. 285-290, Oct. 2015.
• 清水 荘雄, 谷口 博基, 谷山 智康, 伊藤 満. SrTiO₃ (110)基板上に成長させたBaTiO₃薄膜における特異な構造, 日本結晶学会誌, vol. 55, No. 5, pp. 290-295, Nov. 2013.
• 舟窪浩, 木村 純一, 清水荘雄, 松島 正明, 安井伸太郎, 内田 寛, 山田 智明. ビスマス層状誘電体の誘電性の結晶方位依存性と高温対応コンデンサへの応用検討, Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan : セッコウ・石灰・セメント・地球環境の科学, 無機マテリアル学会, Vol. 20, No. 367, pp. 403-407, Nov. 2013.

特許など

• 舟窪浩, 清水荘雄, 安岡慎之介, 上原　雅人, 山田　浩志　, 秋山　守人. 強誘電性薄膜、それを用いた電子素子および強誘電性薄膜の製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所. 2020/12/25. 特願2021-567693. 特許第7260863号. 2023/04/11 2023.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 青山航大, 召田　雅実　, 秋池　良　. 珪化物系合金薄膜及びその製造方法. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社. 2020/09/18. 特願2020-157537. 2022/03/31. 特開2022-051194. 2022.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 三村和仙, 中村　美子, 志村　礼司郎, 田代裕貴. 強誘電性膜の製造方法、強誘電性膜、及びその用途. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学. 2020/04/27. PCT/JP2020/018031. 2020/10/29. WO 2020/218617. 2020.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 青山航大, 召田　雅実, 秋池　良. バリウムおよびストロンチウムを含む珪化物薄膜及びその製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社. 2019/09/03. 特願2019-160314. 2021/03/11. 特開2021-038433. 特許第7474434号. 2024/04/17 2024.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 長谷川光勇, 石濱圭佑, 佐藤　祐介, 佐藤　和希子, 石田　未来. 誘電性薄膜、誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社. 2019/09/11. 特願2020-546060. 2021/09/30. 再表2020/054779. 特許第7515113号. 2024/07/04 2024.
• 舟窪浩, 舘山明紀, 伊東 良晴, 清水荘雄, 折野裕一郎, 黒澤実, 内田 寛, 白石貴久, 木口 賢紀, 熊田 伸弘. 圧電体膜の製造方法. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 学校法人上智学院, 国立大学法人東北大学, 国立大学法人山梨大学. 2019/01/10. 特願2019-564746. 2021/03/11. 再表2019/139100. 2021. Mar.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 三村和仙, 志村　礼司郎, 井上　ゆか梨, 佐藤　祐介. 強誘電性薄膜、強誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社. 2018/08/31. 特願2018-163377. 2020/03/05. 特開2020-033629. 特許第7061752号. 2022/04/21 2022.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 青山航大, 召田　雅実, 倉持　豪人, 秋池　良. ストロンチウムを含む薄膜及びその製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社. 2018/02/28. 特願2018-035001. 2019/09/05. 特開2019-149523. 特許第7076093号. 2022/05/19 2022.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 長谷川光勇, 佐藤　祐介　, 佐藤　和希子　, 石田　未来　. 圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社. 2018/01/09. 特願2018-001161. 2019/07/22. 特開2019-121702. 2019.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 根本祐一, 佐藤　祐介　, 森下　純平　, 佐藤　和希子. 圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社. 2017/10/25. 特願2017-206190. 2019/05/23. 特開2019-079948. 2019.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 根本祐一, 政井　琢　, 佐藤　祐介　, 森下　純平. 圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社. 2016/12/22. 特願2017-558284. 2018/10/18. 再表2017/111090. 2018.
• 清水荘雄, 舟窪浩, 片山きりは, 三村和仙. 強誘電性薄膜、電子素子及び製造方法. 特許. 登録. 国立大学法人東京工業大学. 2015/08/28. 特願2016-545654. 2017/06/15. 再表2016/031986. 特許第6661197号. 2020/02/14 2020.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 木村純一, 桜井　英章　, 藤井　順　, 曽山　信幸. 非鉛誘電体薄膜及びこの薄膜形成用組成物並びにこの薄膜の形成方法. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社. 2014/08/27. 特願2014-172455. 2015/06/11. 特開2015-107905. 2015.
• 舟窪浩, 清水荘雄, 木村純一, 桜井　英章, 藤井　順, 曽山　信幸. 非鉛誘電体薄膜形成用液組成物及びその薄膜の形成方法並びにその方法で形成された非鉛誘電体薄膜. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社. 2014/08/27. 特願2014-172543. 2015/06/11. 特開2015-107904. 2015.
• 舟窪浩, 田中宏樹, 清水荘雄, 内山　潔. ペロブスカイト型酸化物層の形成方法、ペロブスカイト型酸化物層及びそれを用いた用途. 特許. 公開. 国立大学法人東京工業大学, 独立行政法人国立高等専門学校機構 鶴岡工業高等専門学校. 2014/03/14. 特願2014-052545. 2015/10/05. 特開2015-175030. 2015.

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